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詳細介紹
1. 產品概述
PD-200STL是一種用于研發的低溫(80~400℃)、高速(>300nm/min)等離子體增強型CVD系統。Samco的液態源CVD系統采用自偏置沉積技術和液態TEOS源，以低應力沉積SiO2薄膜，從薄膜到厚的薄膜（高達100μm）。PD-200STL具有時尚、緊湊的設計，只需要小的潔凈室空間。
2. 設備用途/原理
塑料材料上保護膜的沉積在3D LSI的通孔側壁上沉積絕緣膜。光波導的制造（光纖芯/包層）。制造用于微型機械生產的面罩。覆蓋高縱橫比結構，如MEMS器件。SAW設備的溫度補償膜和鈍化膜。
3. 設備特點
加工范圍達?200毫米（8"）。陰耦合自偏析沉積技術可以實現低應力薄膜的高速（>300nm/min）沉積。通過低溫沉積，可以在塑料表面上沉積薄膜。高縱橫比結構的優秀階梯覆蓋率，使用鍺、磷、硼液源控制折射率。PD-200STL設計時尚、緊湊，只需要小的潔凈室空間。
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