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詳細介紹
1. 產品概述
Polaris系列 12英寸通用物理氣相沉積系統，磁控濺射源和腔室結構的設計有效提高靶材利用率。
2. 設備用途/原理
Polaris系列 12英寸通用物理氣相沉積系統，磁控濺射源和腔室結構的設計有效提高靶材利用率，靈活的腔室配置，針對優良封裝域優化、穩定的傳輸系統，兼容玻璃片、翹曲片、鍵合片等多種類型基片傳輸，穩定并且低的Rc表現，良好的顆粒和應力控制能力，優化的工藝流程帶來大產能表現，低運營成本。
3. 設備特點
晶圓尺寸 12英寸，適用材料 銅、鈦、氮化鈦、鉭、氮化鉭、鎢化鈦、金、鋁等，適用工藝 電、優良封裝中的UBM/RDL，適用域 新興應用、優良封裝。
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