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Nikon NSR 2005i8A 1、Nikon NSR 2005i8A步進式光刻機 光源波長365nm 分辨率優于0.5µm 主要用于2寸、4寸、6寸、8寸生產線 廣泛應用于化合物半導體、MEMS、LED等領域 2、產品詳情 主要技術指標 分辨率0.5µm N.A.0.6 曝光光源365nm 倍率5:1 最大曝光現場20mm*20mm 對準精度LSA：120nm FIA：130nm
更新時間：2024-09-04
型號：Nikon NSR 2005i8A
廠商性質：經銷商
瀏覽量：669
1、Nikon NSR 1755/1505i7A/B步進式光刻機 光源波長365nm 分辨率優于0.6µm 主要用于2寸、4寸、6寸生產線 廣泛應用于化合物半導體、MEMS、LED等領域 2、產品詳情 主要技術指標 分辨率0.6µm N.A.0.6 曝光光源365nm 倍率5:1 最大曝光現場15mm*15mm 17.5mm*17.5mm 對準精度140nm
更新時間：2024-09-04型號：Nikon NSR 1755/1505i7A/B廠商性質：經銷商瀏覽量：643
Nikon NSR G線光刻機 1、Nikon NSR G線步進式光刻機 光源波長436nm 分辨率優于0.65µm 主要用于2寸、4寸、6寸生產線 廣泛應用于化合物半導體、MEMS、LED等領域 2、產品詳情 主要技術指標 分辨率0.65µm N.A.0.6 曝光光源436nm 倍率5:1 最大曝光現場15mm*15mm 17.5mm*17.5mm 對準精度140nm
更新時間：2024-09-04型號：Nikon NSR廠商性質：經銷商瀏覽量：644
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