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            當前位置:首頁  >  產品中心  >  二手翻新設備  >  1 光刻機  >  Nikon NSR 1755/1505i7A/B步進式光刻機

            步進式光刻機

            簡要描述:1、Nikon NSR 1755/1505i7A/B步進式光刻機
            光源波長365nm
            分辨率優于0.6µm
            主要用于2寸、4寸、6寸生產線
            廣泛應用于化合物半導體、MEMS、LED等領域
            2、產品詳情
            主要技術指標
            分辨率0.6µm
            N.A.0.6
            曝光光源365nm
            倍率5:1
            最大曝光現場15mm*15mm
            17.5mm*17.5mm
            對準精度140nm

            • 產品型號:Nikon NSR 1755/1505i7A/B
            • 廠商性質:經銷商
            • 更新時間:2024-09-04
            • 訪  問  量: 648

            詳細介紹

            一、產品概述:

            Nikon NSR 1755/1505i7A/B步進式光刻機是一款高精度的半導體制造設備,該機型采用優良的步進光刻技術,能夠實現高分辨率和高精度的圖案轉移,廣泛應用于集成電路(IC)、微處理器和存儲器等電子元件的制造。憑借其良好的成像質量和快速的曝光速度,Nikon NSR 1755/1505i7A/B非常適合大批量生產,同時其用戶友好的操作界面和高效的自動化功能提升了生產效率。這使得Nikon NSR 1755/1505i7A/B成為現代半導體制造過程中的重要工具,滿足行業對高質量和高效率的需求。

            二、設備用途/原理:

            該設備通過高強度光源將掩模上的圖案逐步投影到涂有光刻膠的晶圓表面。光源發出特定波長的光線,經過高分辨率光學系統,精確地將掩模圖案投影到晶圓上進行曝光。曝光后,光刻膠的化學性質發生變化,隨后進行顯影,去除未曝光或已曝光的光刻膠,從而形成所需的圖案。接著,利用刻蝕工藝將圖案轉移到晶圓材料上,最后去除殘留的光刻膠。通過這一系列步驟,Nikon NSR 1755/1505i7A/B能夠高效地實現復雜圖形的精確轉移,滿足現代半導體制造的高標準要求。

            三、主要技術指標:

            分辨率

            0.6µm

            N.A.

            0.6

            曝光光源

            365nm

            倍率

            5:1

            大曝光現場

            15mm*15mm
            17.5mm*17.5mm

            對準精度

            140nm

            四、設備特點

            Nikon NSR 1755/1505i7A/B步進式光刻機

            光源波長365nm

            分辨率優于0.6µm

            主要用于2寸、4寸、6寸生產線

            廣泛應用于化合物半導體、MEMS、LED等


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