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1、Nikon SF120/130步進式光刻機 光源波長365nm 分辨率優于0.28µm 主要用于6寸、8寸及12寸生產線 廣泛應用于化合物半導體、MEMS、LED等領域 2、產品詳情 主要技術指標 分辨率0.28µm N.A.0.62 曝光光源365nm 倍率4:1 最大曝光現場25mm*33mm 對準精度LSA：40nm FIA：45nm
更新時間：2024-09-04
型號：Nikon SF120/130
廠商性質：經銷商
瀏覽量：964
1、Nikon NSR 2205i14E步進式光刻機 光源波長365nm 分辨率優于0.35µm 主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生產線， 廣泛應用于化合物半導體、MEMS、LED等領域 2、產品詳情 主要技術指標 分辨率0.35µm N.A.0.63 曝光光源365nm 倍率5:1 最大曝光現場22mm*22mm 對準精度 LSA：55nm FIA：65nm
更新時間：2024-09-04型號：Nikon NSR 2205i14E廠商性質：經銷商瀏覽量：691
1、Nikon NSR 2205i12D步進式光刻機 光源波長365nm 分辨率優于0.4µm 主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生產線 廣泛應用于化合物半導體、MEMS、LED等領域 2、產品詳情 主要技術指標 分辨率0.4µm N.A.0.63 曝光光源365nm 倍率5:1 最大曝光現場 22mm*22mm 對準精度 LSA：60nm FIA：70nm
更新時間：2024-09-04型號：Nikon NSR 2205i12D廠商性質：經銷商瀏覽量：802
1、Nikon NSR 2205i11D步進式光刻機 光源波長365nm 分辨率優于0.4µm 主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生產線 廣泛應用于化合物半導體、MEMS、LED等領域 2、產品詳情 主要技術指標 分辨率0.4µm N.A.0.63 曝光光源365nm 倍率5:1 最大曝光現場22mm*22mm 對準精度 LSA：75nm FIA：80nm
更新時間：2024-09-04型號：Nikon NSR 2205i11D廠商性質：經銷商瀏覽量：831
1、Nikon NSR 2005i10C步進式光刻機 光源波長365nm 分辨率優于0.45µm 主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生產線 廣泛應用于化合物半導體、MEMS、LED等領域 2、產品詳情 主要技術指標 分辨率0.45µm N.A.0.57 曝光光源365nm 倍率5:1 最大曝光現場20mm*20mm 對準精度 LSA：100nm FIA：110nm
更新時間：2024-09-04型號：Nikon NSR 2005i10C廠商性質：經銷商瀏覽量：698
1、Nikon NSR 2005i9C步進式光刻機 光源波長365nm 分辨率優于0.45µm 用于2寸、4寸、6寸、8寸生產線 廣泛應用于化合物半導體、MEMS、LED等領域 2、產品詳情 主要技術指標 分辨率0.45µm N.A.0.57 曝光光源365nm 倍率5:1 最大曝光現場20mm*20mm 對準精度 LSA：120nm FIA：130nm
更新時間：2024-09-04型號：Nikon NSR 2005i9C廠商性質：經銷商瀏覽量：796
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